高光制药今日宣布，其自主研发的全球领先高选择性双靶点JAK1/TYK2 抑制剂吉诺昔替尼（TLL‑018）治疗活动性类风湿关节炎（“RA”）的III期临床研究结果，入选2026年美国风湿病学会年会（ACR Convergence）重磅口头报告（late‑breaking oral presentation）。

2026年11月6日至11日期间，全球规模最大的线下风湿病学学术会议——美国风湿病学会年会 ACR Convergence 2026，将在美国佛罗里达州奥兰多举行。作为全球风湿免疫领域顶级学术风向标，2026年ACR年会接收近3000份摘要，来自100多个国家、超过15000名全球风湿临床医生、转化科学家、药企研发人员参会，是全球风湿领域最大规模学术盛会。

本次入选ACR2026年会重磅口头报告的是吉诺昔替尼与托法替布在活动性类风湿关节炎病人中对头比较的III期研究主要疗效终点分析结果。主要研究者中国医学科学院北京协和医院曾小峰教授表示：“ACR Convergence是国际风湿免疫方面顶尖学术会议，我们的研究能够入选重磅口头报告，充分体现了国际同行对该成果的肯定。目前研究已圆满完成，我们期待在会议上与各国专家充分交流探讨，并积极推动成果转化与临床应用，力争尽快让患者从中获益。”

关于吉诺昔替尼

吉诺昔替尼是一款具有全球领先高选择性的JAK/ TYK2双抑制剂，在多种自身免疫疾病中具备成药潜力。依托专有激酶抑制剂平台，吉诺昔替尼实现了对TYK2和JAK1的选择性较JAK2和JAK3高出200倍以上的重大突破。

在类风湿关节炎领域，吉诺昔替尼在中国已完成临床III期注册性试验，并于2026年4月读出积极顶线数据，于2026年7月获CDE突破性疗法认定。在慢性自发性荨麻疹领域，吉诺昔替尼也已完成临床III期注册性试验，并于2026年1月读出积极顶线数据。

关于高光制药

高光制药是一家临床阶段的生物制药公司，专注于外周和中枢自身免疫及炎症性疾病的治疗，致力于开发具有重大临床价值的创新药物。

公司的核心项目吉诺昔替尼（girocitinib，TLL-018）是一种高活性、高选择性的JAK1/TYK2双靶点抑制剂。 已完成慢性自发性荨麻疹（CSU）和类风湿性关节炎（RA）的III期临床并取得积极的疗效和安全性结果。

公司已通过TLL-041项目验证其中枢药物开发能力。该项目为透脑性JAK1/TYK2抑制剂，并于2023年授权给Biohaven，目前已推进至帕金森病全球II/III期关键临床试验阶段（BHV-8000/TLL-041）。

NLRP3是公司的第二大研发平台，公司正在开发用于中枢神经系统/神经退行性疾病的HL-400，以及用于外周疾病的HL-450。